O seu traballo, titulado “Síntese e propiedades de películas finas epitaxiais de óxidos preparadas mediante Deposición Asistida por Polímero”, explora a forma na que a síntese de películas ultra finas (nanométricas) e sistemas bidimensionais de óxidos se converteu nun elemento imprescindible na fabricación de dispositivos electrónicos de uso común.
O investigador predoutoral do CiQUS Xosé Manuel Vila Fungueiriño defendeu hoxe a súa Tese de doutoramento titulada “Síntese e propiedades de películas finas epitaxiais de óxidos preparadas mediante Deposición Asistida por Polímero”, supervisada polo investigador Francisco Rivadulla Fernández e a doutora Beatriz Rivas Murias e na que se explora a forma na que a síntese de películas ultra finas (nanométricas) e sistemas bidimensionais de óxidos se converteu nun elemento imprescindible na fabricación de dispositivos electrónicos de uso común.
Neste sentido, analízase a extraordinaria variedade de propiedades físicas que caracterizan aos óxidos e as súas múltiples aplicacións en diversos campos, cuxa explotación require da fabricación de películas finas de alta calidade cristalina. Nas últimas décadas tentáronse empregar métodos químicos baseados en disolucións acuosas, que teñen un menor custe aínda que non se obtivera unha calidade satisfactoria, tanto desde o punto de vista morfolóxico-estrutural como do funcional, namentres que na actualidade empréganse métodos de deposición física que obteñen películas cun crecemento epitaxial (é dicir, 
perfectamente ordenado) e cun espesor controlable, pero que requiren equipamento altamente especializado (sputtering, PLD, MBE).
Nesta tese, cuxa liña de investigación deu excelentes resultados na integración de óxidos funcionais en plataformas de silicio, caracterizáronse os principais aspectos químicos e optimizáronse as condicións para producir películas epitaxiais de calidade comparable á dos métodos físicos, isto é, controlando a estequiometría, 
o espesor e a rugosidade e demostrando, consecuentemente, a síntese de películas epitaxiais de compostos multicatiónicos, incluso sobre superficies grandes desde o punto de vista tecnolóxico, de varios centímetros cadrados, de forma que o control sobre os parámetros de síntese permitiu a preparación por primeira vez, por métodos químicos de disolución, de multicapas epitaxiais combinando diferentes materiais, o que se traduciu na fabricación de dispositivos tecnoloxicamente tan avanzados como unións túnel de apenas 3 nm de espesor.