Su trabajo, titulado “Síntesis y propiedades de películas finas epitaxiales de óxidos preparadas mediante Deposición Asistida por Polímero”, explora la forma en la que la síntesis de películas ultra finas (nanométricas) y sistemas bidimensionales de óxidos se ha convertido en un elemento imprescindible en la fabricación de dispositivos electrónicos de uso común.
El investigador predoctoral del CiQUS José Manuel Vila Fungueiriño ha defendido hoy su Tesis doctoral titulada “Síntesis y propiedades de películas finas epitaxiales de óxidos preparadas mediante Deposición Asistida por Polímero”, supervisada por el investigador Francisco Rivadulla Fernández y la doctora Beatriz Rivas Murias y en la que se explora la forma en la que la síntesis de películas ultra finas (nanométricas) y sistemas bidimensionales de óxidos se ha convertido en un elemento imprescindible en la fabricación de dispositivos electrónicos de uso común.
En este sentido, se analiza la extraordinaria variedad de propiedades físicas que caracterizan a los óxidos y sus múltiples aplicaciones en diversos campos, cuya explotación requiere de la fabricación de películas finas de alta calidad cristalina. En las últimas décadas se ha intentado utilizar métodos químicos basados en disoluciones acuosas, que tienen un menor coste aunque todavía no se había obtenido una calidad satisfactoria, tanto desde el punto de vista morfológico-estructural como del funcional, mientras que en la actualidad se utilizan métodos de deposición física que obtienen películas con un crecimiento epitaxial (es decir, 
perfectamente ordenado) y con un espesor controlable, pero que requieren equipamiento altamente especializado (sputtering, PLD, MBE).
En esta tesis, cuya línea de investigación ha dado excelentes resultados en la integración de óxidos funcionales en plataformas de silicio, se han caracterizado los principales aspectos químicos y se han optimizado las condiciones para producir películas epitaxiales de calidad comparable a la de los métodos físicos, esto es, controlando la estequiometría, 
el espesor y la rugosidad. De esta manera se ha demostrado la síntesis de películas epitaxiales de compuestos multicatiónicos, incluso sobre superficies grandes desde el punto de vista tecnológico, de varios centímetros cuadrados. Además, el control sobre los parámetros de síntesis ha permitido la preparación por primera vez por métodos químicos de disolución, de multicapas epitaxiales combinando diferentes materiales, lo que se ha traducido en la fabricación de dispositivos tecnológicamente tan avanzados como uniones túnel de apenas 3 nm de espesor.