O artigo proporciona unha base de datos que será de utilidade no proceso de selección dos substratos apropiados para o crecemento epitaxial de películas delgadas.
A revista APL Materials destacou recentemente como "Featured Article" do seu número especial sobre materiais termoeléctricos o traballo titulado "Análise da dependencia da temperatura da condutividade térmica dos óxidos monocristalinos illantes", realizado na Universidade de Santiago de Compostela por un equipo de investigadores do CiQUS en colaboración co Departamento de Física.
O traballo, liderado polo investigador do CiQUS Francisco Rivadulla, mostra a relación existente entre a variación da temperatura e a condutividade térmica en 27 cristais diferentes de óxidos, desde -250ºC ata 77ºC (20 K a 350 K), ademais de achegar varias reflexións sobre o tempo de relaxación do fonón (a cuasipartícula que constitúe o proceso primario da condución de calor).
Neste caso, os cristais estudados, fabricados pola empresa Crystec, líder mundial na fabricación de substratos de óxidos monocristalinos de alta calidade, foron seleccionados entre os substratos máis comúns utilizados para o crecemento epitaxial de películas delgadas de óxidos, que é unha parte fundamental no desenvolvemento de novos materiais en nanotecnoloxía.
Durante as últimas dúas décadas producíronse grandes avances neste campo, o que permitiu o deseño e optimización de materiais superconductores, ferroeléctricos, multiferróicos, etc. Avances nos que xogou un papel importante a dispoñibilidade comercial dun gran número de óxidos monocristalinos de alta calidade, que poden ser utilizados como substratos para un crecemento epitaxial da película delgada. Moitas das aplicacións destes sistemas (termoelectricidade, efectos spin-transferencia asistida por calor, illamento térmico e a disipación da calor en nanoestructuras, etc.) requiren un coñecemento detallado do proceso de transporte de calor na película delgada e o substrato.
Este traballo proporciona unha importante base de datos para a selección dos substratos apropiados para o crecemento de películas delgadas de acordo coas súas propiedades térmicas desexadas, xa que existen numerosas aplicacións nas que a xestión da calor é importante.