El artículo proporciona una base de datos que será de utilidad en el proceso de selección de los sustratos apropiados para el crecimiento epitaxial de películas delgadas.
La revista APL Materials ha destacado recientemente como "Featured Article" de su número especial sobre Materiales Termoeléctricos el trabajo titulado "Análisis de la dependencia de la temperatura de la conductividad térmica de los óxidos monocristalinos aislantes", realizado en la Universidade de Santiago de Compostela por un equipo de investigadores del CiQUS en colaboración con el Departamento de Física.
Este trabajo, liderado por el investigador del CiQUS Francisco Rivadulla, muestra la relación existente entre la variación de la temperatura y la conductividad térmica en 27 cristales diferentes de óxidos, desde -250ºC hasta 77ºC (20 K a 350 K), además de aportar varias reflexiones sobre el tiempo de relajación del fonón (la cuasipartícula que constituye el proceso primario de la conducción de calor).
En este caso, los cristales estudiados, fabricados por la empresa Crystec, líder mundial en la fabricación de sustratos de óxidos monocristalinos de alta calidad, han sido seleccionados entre los sustratos más comunes utilizados para el crecimiento epitaxial de películas delgadas de óxidos, que es una parte fundamental en el desarrollo de nuevos materiales en nanotecnología.
Durante las últimas dos décadas se han producido grandes avances en este campo, lo que ha permitido el diseño y optimización de materiales superconductores, ferroeléctricos, multiferróicos, etc. Avances en los que ha jugado un papel importante la disponibilidad comercial de un gran número de óxidos monocristalinos de alta calidad, que pueden ser utilizados como sustratos para un crecimiento epitaxial de la película delgada. Muchas de las aplicaciones de estos sistemas (termoelectricidad, efectos spin-transferencia asistida por calor, aislamiento térmico y la disipación de calor en nanoestructuras, etc.) requieren un conocimiento detallado del proceso de transporte de calor en la película delgada y el sustrato.
Este trabajo proporciona una importante base de datos para la selección de los sustratos apropiados para el crecimiento de películas delgadas de acuerdo con sus propiedades térmicas deseadas, ya que existen numerosas aplicaciones en las que la gestión del calor es importante.